Webにプラズマエッチングが利用されている．GaNの次世代パ ワーデバイスの更なる小型化・高効率化に向け，プラズマ エッチングに要求されるプロセス特性に表面荒れの抑制や … Webにプラズマエッチングが利用されている．GaNの次世代パ ワーデバイスの更なる小型化・高効率化に向け，プラズマ エッチングに要求されるプロセス特性に表面荒れの抑制や エッチング形状の制御，ダメージレスなどが挙げられる．

CF4プラズマェッチング特性 - 日本郵便

Webエッチングガスと反応副生成物 エッチングで使用するガスは、ガスと対象膜のエッチング反応生成物の蒸気圧温度が低いものを選択します。 蒸気圧温度が高い場合、エッチン … WebNov 6, 2024 · 筆者は、日立やエルピーダメモリで、4M～1GビットDRAMのドライエッチング技術の開発を経験した。. その際、常に苦しかったのはキャパシター用のHARC加工だった。. 最後の1GビットDRAMの開発では、HARCのAR比が10～15になり、「もうダメだ、もう限界だ」と ... spelling of possess

4．難エッチング材料に対する原子層エッチング反応解析

Web膜のドライエッチング方法が提供される。 【0007】本発明のドライエッチング方法では、SF 6 、BCl 3 及びCl 2 からなる混合ガスが使用される。 混合ガスの組成比は、SF 6 が2〜20容量％、BCl 3 が20〜40容量％、Cl 2 が50〜78容量％からな ることが好ましい。 更に好ましい混合ガスの組成比は、 SF 6 が5〜15容量％、BCl 3... WebITO膜 のエッチングに使用される反応性ガスとして, ハロゲンガス系4)～7)・9)・11)と有機ガス系8)～ii)に大別できる。 表1に 一般的に検討されている反応性ガスをまとめる。 これらの反応性ガスとInとSnの 酸化物であるITOと Web磁性積層膜のマスクとMTJ一貫加工が可能な他、CH3OHガスによる低ダメージ加工プロセスによってエッチング可能であること、CVDチャンバーを増設することによって、加工後の保護膜形成までの一貫処理を実現していること、対応基板サイズがφ150mm、φ200mmで ... spelling of physicist